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產品概述

無掩模光刻可以隨意進行納米圖案化，而不需要緩慢且昂貴的光掩模。這種便利對于研究和快速原型制作特別有用。 POLOS? Beam 在不影響性能的情況下將其帶到桌面上，從而補充了現有的優勢。

當配備405 nm引擎和20倍物鏡時，光束引擎能夠在4″ 晶圓上產生小于 (CD) 0.8 um 的特征。

小型

全功能無掩模光刻機，比臺式電腦還小。

高效

亞微米分辨率，同時在不到兩秒的時間內曝光寫入區域。

超快自動對焦

壓電致動器與我們的閉合環形對焦光學元件相結合，可在

不到一秒的時間內完成對焦

輕松實現多層對齊

半自動對齊可在幾分鐘內完成多層對齊。

應用范圍擴展至微機電系統 (MEM)、生物醫學設備和微電子器件的設計和制造，例如以下領域：

醫療（包括微流體）
半導體
微電子
生物技術和生命科學
先進材料研究
市場趨勢與機遇

技術參數

產品視頻

應用領域

下載中心

產品報價